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低压扩散炉

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●  用  途:

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低压扩散炉主要用于太阳能电池片,在低于标准大气压状态后,再进行扩散掺杂工艺。也可用于N型电池片

扩硼工艺

 

●  特  点:

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工艺管数可扩展到5管
70~120Ω/□ 区间的5点方阻均匀性可达到4% 、3%、3%
磷源节约70%,氮气节约95%,COO优势明显
产能≥1000片/管 
工艺时间65min
可在旧扩散炉上进行改造
适用于磷扩和硼扩工艺
炉门密封采用双层结构,确保腔内压力稳定;
可选配(MES接口、自动上下料、上下位机控制、在线倒片机构)

70~120Ω/□ 区间的5点方阻均匀性可达到4% 、3%、3%



●  技术指标:

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适用硅片尺寸

125mm×125mm /156mm×156mm

装片量

≥1000片/管

工作温度范围

600~1200

恒温区长度及精度

±0.5/1300mm

气体流量控制精度

±1%F.S

气路系统气密性

1×10-7pa.m3/s

真空系统漏率

≤4mbar/min(冷态)≤6mbar/min(热态)

压力调节范围

50~800mbar,连续可调

控温方式

串级控制