产品中心
首页/产品中心
单晶氧化退火炉
主要用途：单晶硅制造过程中氧化退火，改善晶体质量、消除缺陷、优化电学性能，确保单晶硅高纯度及均匀性
- 产品详情
应用场景：
直拉单晶（CZ法）制造 | 晶体生长后热处理、氧沉淀控制、掺杂均匀性优化 |
区熔单晶（FZ法）制造 | 缺陷修复、氧含量调节、表面钝化 |
大尺寸单晶硅片加工 | 晶圆预处理、表面氧化层生长 |
高质量单晶研发 | 新型单晶材料的氧化退火工艺研究；大尺寸单晶硅的性能优化与缺陷控制 |
样片检测 | 硅单晶片缺陷检测 |
